真空加热台VTP200
简介：VTP200可用于微波器件、微波组件、TR模块的共晶烧结。 设备可提供惰性气体保护，整机控制界面有液晶显示各项工艺参数。
设备特点
桌面型一体化设备
处理环境：提供氮气保护
最大真空度：8x 10-2mbar
加热表面：不锈钢材料，200mmx200mm
加热盘上部空间：50mm
最大温度：450°C
控制偏差:+/- 1 °C
温度均匀性：+/- 1.5 %从设定温度，在180mm的区域内
加热器是嵌入在加热盘内部的电阻加热体有效最大功率3KW,采用区域加热方式
人机界面：3.5英寸电阻触摸屏，触摸屏提供自动模式' 诊断模式和参数及用户管理
可用测温组数：2组，一组用于系统测温；一蛆供调试使用，位置自由摆放
腔室盖启闭：自动和手动（可选）
观察窗：玻璃观察窗4＞70mm
